HBM Specialist
SK하이닉스의 HBM
SK하이닉스는 고대역폭 메모리(HBM, High Bandwidth Memory) 기술에서 세계적인 선두주자로 자리 잡으며, 인공지능(AI), 고성능 컴퓨팅(HPC), 데이터 센터 등 첨단 산업의 핵심 메모리 공급업체로 부상했습니다. SK하이닉스의 HBM 기술은 TSV(Through-Silicon Via)와 같은 혁신적인 칩 적층 기술을 기반으로 높은 데이터 처리 속도와 에너지 효율성을 제공합니다.

HBM 도입 초기와 시장 선도
– SK하이닉스는 2013년 세계 최초로 HBM1을 상용화하며 시장에 진입했습니다. 이는 TSV 기술을 활용해 DRAM 칩을 수직으로 적층하고, 이를 실리콘 인터포저로 연결하는 방식으로 기존 메모리 대비 대역폭과 효율성을 크게 향상시켰습니다.
– 이후 2019년에는 HBM2E를 출시하며 MR-MUF(Mass Reflow Molded Underfill) 기술을 적용해 열 방출과 칩 안정성을 개선했습니다.
HBM3와 HBM3E
– 2023년에는 HBM3를, 2024년에는 12층 적층 구조를 가진 HBM3E를 출시하며 AI 및 HPC 시장에서 독보적인 위치를 확보했습니다. HBM3E는 초당 1.2TB의 데이터 처리 속도를 제공하며, 이는 AI 모델과 대규모 언어 모델(LLM)의 고속 연산을 가능하게 합니다.
– 특히 Nvidia와 같은 주요 고객사에 안정적인 공급을 통해 시장 점유율 50% 이상을 차지하며 글로벌 리더십을 강화했습니다.
HBM4 개발
– SK하이닉스는 현재 차세대 HBM4 개발에 집중하고 있으며, 이를 통해 더 높은 메모리 용량과 데이터 처리 속도를 제공할 계획입니다. HBM4는 2025년 하반기에 출시될 예정이며, 향후에는 16층 적층 구조를 가진 HBM4E로 확장될 전망입니다.
HBM3와 HBM3E
HBM3와 HBM3E는 고대역폭 메모리(High Bandwidth Memory, HBM) 기술의 최신 세대로, 인공지능(AI), 고성능 컴퓨팅(HPC), 데이터 센터와 같은 데이터 집약적인 애플리케이션에서 필수적인 메모리 솔루션으로 자리 잡고 있습니다. 두 기술은 각각의 세대에서 성능과 효율성을 크게 향상시키며, 특히 HBM3E는 HBM3의 확장 버전으로 더 높은 데이터 전송 속도와 용량을 제공합니다. 아래에 두 기술의 차이점과 주요 특징을 정리합니다.
HBM3 : 주요 특징
1. 데이터 전송 속도 및 대역폭
– HBM3는 핀당 6.4Gbps의 데이터 전송 속도를 제공하며, 1024비트 버스를 통해 스택당 최대 819GB/s의 대역폭을 지원합니다.
– 이는 이전 세대인 HBM2E보다 약 78% 더 높은 대역폭을 제공하며, AI 및 그래픽 처리 애플리케이션에서 성능을 크게 향상시켰습니다.
2. 적층 구조
– 최대 16개의 DRAM 다이를 적층할 수 있으며, 각 다이는 32Gb 용량을 지원하여 스택당 최대 64GB의 메모리 용량을 제공합니다.
3. 전력 효율성
– 코어 전압을 1.2V에서 1.1V로 낮추고, I/O 신호 전압을 400mV로 줄임으로써 에너지 소비를 줄였습니다.
4. 적용 분야
– HBM3는 AI 모델 학습, 고성능 서버, 데이터 센터 등에서 널리 사용되며, 특히 Nvidia의 GPU와 같은 고성능 프로세서에 채택되었습니다.
HBM3E : 주요 특징과 개선점
HBM3E는 HBM3의 성능을 더욱 강화한 확장 버전으로, 다음과 같은 개선 사항이 있습니다:
1. 더 높은 데이터 전송 속도
– 핀당 최대 9.6Gbps(삼성 Shinebolt는 9.8Gbps까지 가능)의 속도를 제공하며, 스택당 최대 대역폭은 1.23TB/s에 달합니다.
– 이는 HBM3 대비 약 44% 더 높은 대역폭으로, AI 및 HPC 워크로드에서 더욱 빠른 데이터 처리가 가능합니다.
2. 적층 구조와 용량
– SK하이닉스와 삼성전자는 각각 12층과 16층 적층 구조를 구현하여 스택당 최대 36GB 용량을 제공합니다.
– 이는 이전 세대 대비 약 50% 더 높은 메모리 밀도를 의미합니다.
3. 열 관리 및 패키징 기술
– 삼성은 열 저항을 줄이기 위해 Thermal Compression Non-Conductive Film(TC NCF)과 Epoxy Molding Compound(EMC)를 사용하여 열 방출 성능을 개선했습니다.
– 이러한 기술은 고성능 환경에서도 안정적인 작동을 보장합니다.
4. 전력 효율성
– HBM3E는 내부 회로 최적화와 고유한 High-K Metal Gate(HKMG) 공정을 통해 전력 효율성을 약 12% 향상시켰습니다.
5. 하드웨어 호환성
– HBM3E는 기존 HBM3 설계와 칩 크기가 호환되므로, 하드웨어 레이아웃 변경 없이 업그레이드가 가능합니다.
HBM3 vs HBM3E: 주요 비교
특징 | HBM3 | HBM3E |
데이터 전송 속도 | 핀당 최대 6.4Gbps | 핀당 최대 9.6~9.8Gbps |
대역폭 | 스택당 최대 819GB/s | 스택당 최대 1.23TB/s |
적층 구조 | 최대 16층 (32Gb 다이) | 최대 16층 (36GB 용량) |
전력 효율성 | 코어 전압: 1.1V | 에너지 효율 약 12% 개선 |
열 관리 | 기본 열 관리 | TC NCF 및 EMC 적용으로 열 저항 감소 |
적용 분야 | AI/ML, HPC | AI/ML, HPC, 생성형 AI |

주요 기술적 강점
TSV 및 MR-MUF 기술
– TSV 기술은 칩 간 전기적 연결을 수직으로 구현하여 데이터 전송 속도를 높이고 전력 소비를 줄이는 데 핵심적인 역할을 합니다.
– MR-MUF는 칩 간 보호 물질을 주입하여 열 방출과 칩 변형 문제를 해결하며, 특히 고층 적층 구조에서도 안정성을 보장합니다.
12층 적층 구조
– SK하이닉스는 업계 최초로 12층 적층 구조를 구현했으며, 이를 통해 메모리 밀도와 성능을 극대화했습니다. 이 제품은 AI 서버와 GPU에서 필수적인 고성능 메모리로 자리 잡았습니다.
고객 맞춤형 설계
– SK하이닉스는 고객 요구에 따라 커스터마이징된 HBM 솔루션을 제공하며, AI 및 HPC 시장의 다양한 요구를 충족시키고 있습니다.
시장 전략 및 성과
Nvidia와의 협력
– Nvidia의 최신 GPU(예: Blackwell)에 최적화된 HBM3E 공급으로 AI 반도체 시장에서 강력한 입지를 구축했습니다.
– Nvidia 외에도 Meta, Google 등 글로벌 IT 기업들과 협력하며 AI 및 데이터 센터 시장에서 영향력을 확대하고 있습니다.
생산 능력 확대
– SK하이닉스는 DRAM 생산 능력을 전년 대비 70% 확대하여 급증하는 AI 및 HPC 수요에 대응하고 있습니다.
– 안정적인 생산 공정과 높은 수율로 경쟁사 대비 우위를 점하고 있습니다.
미래 지향적 투자
– SK하이닉스는 차세대 HBM 개발뿐 아니라 패키징 기술(예: 하이브리드 본딩)에도 집중 투자하며 시장 리더십을 유지하고 있습니다.
Future
HBM 기술의 미래 전망
HBM(High Bandwidth Memory)의 미래 전망은 인공지능(AI), 고성능 컴퓨팅(HPC), 데이터 센터와 같은 고성능 애플리케이션의 수요 증가에 따라 매우 밝게 평가되고 있습니다. 특히 SK하이닉스와 삼성전자는 HBM 기술 개발과 시장 선도에서 핵심적인 역할을 하고 있으며, 차세대 HBM4 및 맞춤형(Custom) HBM 개발을 통해 메모리 기술의 새로운 지평을 열고 있습니다. 아래에서 HBM 기술의 미래 전망과 주요 동향을 정리합니다.
1. 맞춤형(Custom) HBM의 부상
– 시장 성장 : SK하이닉스와 삼성전자는 2027년부터 맞춤형 HBM(Custom HBM) 시장이 본격적으로 열릴 것으로 예측하고 있습니다. 이는 고객 요구에 따라 메모리 구조를 조정하거나, 특정 애플리케이션에 최적화된 솔루션을 제공하는 형태로 발전할 예정입니다.
– 경제적 효과: 맞춤형 HBM 시장은 2029년까지 약 38억 달러(약 55조 원) 규모로 성장할 것으로 전망되며, 이는 AI 및 HPC 애플리케이션의 확산과 밀접하게 연관되어 있습니다.
2. 차세대 HBM4 및 HBM5 개발
– HBM4 : 2025년 하반기부터 출시될 예정인 HBM4는 더 높은 데이터 전송 속도와 용량을 제공하며, 전력 효율성을 대폭 개선할 것으로 보입니다. SK하이닉스는 16층 적층 구조를 가진 HBM4를 준비 중이며, 삼성전자도 이를 따라잡기 위해 R&D를 강화하고 있습니다.
– HBM5 : HBM5에서는 TSV(Through-Silicon Via) 구조에 스파이럴 포인트-투-포인트 TSV와 소형 스윙 인터페이스가 도입되어 전력 소비를 줄이고 데이터 처리 속도를 극대화할 예정입니다. 또한, 24층 적층 구조와 PIM(Processing In Memory) 기술이 추가되어 초고속 데이터 처리가 가능해질 것입니다.
3. AI 및 HPC 시장에서의 수요 증가
– AI 발전 : AI 모델이 학습에서 추론 단계로 진화하면서 더 높은 대역폭과 효율성을 요구하는 메모리 수요가 급증하고 있습니다. 특히 생성형 AI와 같은 대규모 언어 모델(LLM)의 확산은 HBM 기술의 중요성을 더욱 부각시키고 있습니다.
– HPC 및 데이터 센터 : 고성능 컴퓨팅과 데이터 센터에서도 에너지 효율적이고 고용량 메모리에 대한 수요가 계속 증가하고 있으며, 이는 HBM 기술 발전의 주요 동력으로 작용하고 있습니다.
4. 패키징 및 열 관리 기술 혁신
– 열 관리 문제 해결 : TSV 적층 구조가 고도화됨에 따라 발생하는 열 문제를 해결하기 위해 마이크로 채널 냉각(Micro Channel Cooling), MR-MUF(Mass Reflow Molded Underfill) 등 첨단 패키징 기술이 도입되고 있습니다. 이러한 기술은 고층 적층 구조에서도 안정적인 성능을 보장합니다.
– 하이브리드 본딩 : SK하이닉스는 하이브리드 본딩 기술을 통해 칩 간 연결성을 강화하고, 삼성전자는 자체 4nm 공정을 활용해 베이스 다이를 생산하며 경쟁력을 유지하고 있습니다.
도전 과제와 전망
1. 높은 생산 비용 : HBM은 기존 DRAM 대비 생산 비용이 높아져 가격 경쟁력이 중요한 과제가 되고 있습니다.
2. 표준화와 기술 간소화 : JEDEC 표준화 작업이 진행 중이며, 이를 통해 차세대 제품들이 더 빠르게 시장에 출시될 수 있는 기반이 마련되고 있습니다.
HBM 기술은 AI와 HPC 시대에서 필수적인 메모리 솔루션으로 자리 잡고 있으며, 맞춤형 HBM과 차세대 제품(HBM4, HBM5)의 개발로 더욱 발전할 것입니다. SK하이닉스와 삼성전자는 각각 기술 리더십과 고객 중심 전략을 통해 시장에서의 입지를 강화하고 있으며, 앞으로도 글로벌 반도체 산업에서 중요한 역할을 할 것으로 기대됩니다.
(본 포스팅에 일부 이미지는 Financial Hub에서 Ai로 생성한 이미지 입니다. 포스트 내용과는 무관합니다.)

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